• 實驗電爐配套的各種材質和尺寸的各種坩埚。主要有:剛玉坩埚、石英坩埚、石墨坩埚、氧化锆坩埚和定制各種材...
    • 我公司大量提供各種規格的K型熱電偶。每支熱電偶出廠之前都經過嚴格的校驗、篩選;确保溫度信号的測量精度...
    • 該純淨型加熱棒主要用于各種爐膛溫度在1200℃以上的實驗電爐。表面已做二次純化處理,不會變色,不會揮...
    • 高純氧化锆微珠(TZPCeramicsbeads)具有密度大,強度高,耐磨,耐腐蝕性能好,熱膨脹系數...
    • 該耐高溫真空泵采用内置風扇和大面積散熱的風冷設計,大幅度降低泵的表面溫升;采用耐高溫密封圈和進口耐高...
    • 該小型行星球磨機是集:混合、研磨、粉體制備、材料分散等多重功能為一體的混料設備。該行星式球磨機體積小...
    • 鄭州成越科學儀器提供各種規格的管式爐專用石英管。所有石英管均采用高純石英沙制作具有雜質含量少,使用溫...
    • 60石英管剛玉管用法蘭材質為304不鏽鋼,采用全數控CNC精密加工,氣密性好,耐腐蝕性強。該60石英...
    • 100石英管剛玉管用法蘭材質為304不鏽鋼,采用全數控CNC精密加工,氣密性好,耐腐蝕性強。該100...
    • 帶測溫孔的管式爐法蘭材質為304不鏽鋼,采用全數控CNC精密加工,氣密性好,耐腐蝕性強。該帶測溫孔的...
    • 帶快擰接頭的管式爐法蘭材質為304不鏽鋼,采用全數控CNC精密加工,氣密性好,耐腐蝕性強。該帶快擰接...
    • 耐腐蝕的管式爐法蘭材質為304不鏽鋼和聚四氟兩種材料複合而成,采用全數控CNC精密加工,氣密性好,耐...
    • 帶鉸鍊的管式爐法蘭材質為304不鏽鋼,采用全數控CNC精密加工,氣密性好,耐腐蝕性強。該帶鉸鍊的管式...
    • 小型二合一鍍膜儀
      等離子濺射和蒸發二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件,不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜,也可以用蒸發的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。
      小型高真空二合一鍍膜...
      等離子濺射和蒸發二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件,不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜,也可以用蒸發的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。
    • 小型溫控蒸發鍍膜儀
      本小型程序控溫蒸發鍍膜儀可對程序進行設定,并精 确控制溫度在200ºC-1500ºC的範圍内進行變化,在對樣品進行蒸發鍍膜的過程中,樣品台可進行旋轉,以獲得更均勻的薄膜。本型号的小型程序控溫蒸發鍍膜儀應用範圍廣,可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜,因此被廣泛用于電極的制備和有機物發光LED的制備。儀器體積小巧,可有效節約實驗室空間;操作簡單,對不同材料的适應性強,因此被廣泛應用于各大高校和科研院所的實驗室當中。
      小型蒸發鍍膜儀
      本儀器是一款小型蒸發鍍膜儀,蒸發溫度從200℃到1700℃,采用鎢絲籃作為蒸發源,蒸發源外套高純氧化鋁坩埚。樣品台距離蒸發源距離可調。小型蒸發鍍膜儀擁有高精度的溫度控制系統,采用循環加熱方式,能夠穩定蒸發金屬及部分有機物。
      小型高真空熱蒸發鍍膜...
      本儀器是一款高真空緊湊型熱蒸發鍍膜儀,蒸發溫度從200℃到1700℃,采用鎢絲籃作為蒸發源,蒸發源外套高純氧化鋁坩埚。
    • 三靶等離子濺射鍍膜儀
      三靶等離子濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比等離子濺射鍍膜設備,等離子濺射靶為2英寸的标準尺寸,客戶可以根據需要選擇1~3個靶的不同配置,以滿足鍍單層膜或者多種材料多層膜的不同實驗需求。儀器所配電源為150W直流高壓電源,可用于金屬濺射鍍膜,尤其适合金銀銅等貴金屬的鍍膜。鍍膜儀配有通氣接口,可以通入保護性氣體。儀器采用觸摸屏控制,簡單直觀易于上手,能夠一鍵實現鍍膜啟停、切換靶位、擋闆旋轉等操作,十分适合實驗室選購。
      小型等離子濺射鍍膜儀
      小型等離子濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比等離子濺射鍍膜設備,具有結構緊湊,簡單易用,集成度高,設計感強的優勢。等離子濺射靶為2英寸的标準尺寸。儀器所配電源為150W直流高壓電源,可用于金屬濺射鍍膜,尤其适合金銀銅等貴金屬的鍍膜,常用于實驗室掃描電鏡樣品的導電薄膜制備,也被稱作“噴金儀”。鍍膜儀配有通氣接口,可以通入保護性氣體,若客戶需要通入混合氣體,可以聯系工作人員自行配置高精度質量流量計以滿足實驗需要。
    • 磁控濺射/真空蒸發複...
      磁控濺射/真空蒸發複合型鍍膜設備将磁控濺射技術和真空蒸發技術結合在同一鍍膜設備裡,既利用磁控濺射陰極輝光放電将靶材原子濺出并部分離化沉積在基材上成膜,同時又可利用在真空中以電阻加熱将金屬鍍料熔融并讓其汽化再沉積在基材上成膜。增加了設備的用途和靈活性。該設備應用于手機殼等塑料表面金屬化,應用于不導電膜和電磁屏蔽膜沉積。
      三靶磁控濺射鍍膜儀(...
      三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有标準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇,客戶可以根據所鍍基闆的大小自主選購;所配電源為500W直流電源和300W射頻電源,直流電源可用于金屬薄膜的制備,射頻電源可用于非金屬膜的制備,三個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。若客戶有其他鍍膜需要,可以定制其他射頻電源和脈沖電源,各型電源均有300W到1000W多種規格可選
      三靶磁控濺射鍍膜儀(...
      三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有标準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇,客戶可以根據所鍍基闆的大小自主選購;所配電源為500W直流電源,直流電源可用于金屬薄膜的制備,三個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。若客戶有其他鍍膜需要,可以定制射頻電源和脈沖電源,各型電源均有300W到1000W多種規格可
      三靶磁控濺射鍍膜儀(...
      三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有标準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇,客戶可以根據所鍍基闆的大小自主選購;所配電源為三個300W射頻電源,射頻電源可用于非金屬薄膜的制備,三個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。若客戶有其他鍍膜需要,可以定制直流電源和脈沖電源,各型電源均有300W到1000W多種規格可選。
    • 小型粉末PVD包覆系...
      小型粉末PVD包覆系統是一款小型粉末包覆系統,主要有2英寸磁控濺射頭和振動樣品台組成。小型粉末PVD包覆系統粉末在振動樣品台上振動翻滾,通過濺射在粉末表面進行包覆形成核殼結構。直流磁控濺射适合粉體表面包覆金屬材料.射頻磁控濺射适合材料表面包覆非金屬材料或碳。
      激光鍍膜設備
      激光鍍膜設備系統由真空腔室(主濺射室、進樣室)、樣品傳遞機構、樣品架、旋轉靶台、真空排氣、真空測量、電器控制、配氣、計算機控制等各部分組成。激光鍍膜設備廣泛應用于大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備。
      有機無機蒸發鍍膜儀
      有機無機蒸發鍍膜儀采用直線式結構,主要由二個有機材料生長室組成,兩個有機材料生長室之間通過閘闆閥聯接,其中一個生長室系統預留與手套箱對接接口,能夠完成二套獨立的制備薄膜系統之間互相傳送基片。有機無機蒸發鍍膜儀的有機材料生長室主要由真空室腔體組件、有機蒸發源、熱阻蒸發舟、樣品傳遞裝置、樣品台、膜厚監測儀、真空室照明裝置、烘烤裝置等組成。
      電子束蒸發鍍膜儀
      電子束蒸發鍍膜儀系統主要由蒸發真空室、E型電子槍、熱蒸發電極、旋轉基片加熱台、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機台等部分組成。電子束蒸發鍍膜儀可以廣泛應用于制備高純薄膜和導電玻璃等各種光學材料薄膜。
    • 高壓靜電紡絲機
      本公司生産的高壓靜電紡絲機是一種基于電紡絲技術利用聚合物溶液或熔體在強電場中的噴射作用制備超細纖維的裝置。高壓靜電紡絲機主要由四部分組成:液體供給裝置、噴絲頭、高壓電源及收集裝置。
      超聲波熱解噴塗機
      超聲波熱解噴塗機是由我公司自主研發的一款超聲噴霧熱解設備,超聲波熱解噴塗機配有40KHz 130W的超聲波霧化器、PID控溫的加熱襯底基闆、高精度蠕動泵以及精密程控的步進電機移動機構。
      卷對卷靜電紡絲機
      卷對卷靜電紡絲機是一款桌面型靜電紡絲塗布系統,配有自動卷對卷放料和收料系統。注射泵連續準确的輸送漿料,以達到均勻紡絲制膜的效果。高壓電源可提供0-50KV的電壓輸出。加熱平台對制薄膜進行快速烘幹,在收卷之前。卷對卷靜電紡絲機提供了納米纖維的整套制作流程:紡絲,薄膜烘幹和收集。
      高通量噴霧熱解系統
      高通量噴霧熱解系統是一種高通量的噴霧熱解系統,它具有三種類型的溶液和塗層,不同的組合組合為18mm直徑的程序。基闆zui多36個位置。塗布室是真空的,可在受控氣氛下進行噴霧分解。高通量噴霧熱解系統是一種智能設備,可以更快的速度探索電池電極和鈣钛礦太陽能電池的新一代材料 。

    豫公網安備 41019702002438号